阿斯麦和IMEC联合光刻实验室启用
比利时微电子研究中心（IMEC）和阿斯麦6月3日宣布，由双方共同运营的High-NA EUV光刻实验室（High NA EUV Lithography Lab）在荷兰费尔德霍芬（Veldhoven）开幕，该实验室可提供High NA EUV扫描仪（TWINSCANEXE：5000）及周边处理工具。声明中称，该实验室的启用是为大批量生产High NA EUV做准备的一个里程碑，预计将于2025-2026年实现大批量生产。
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